Dépôt chimique en phase vapeur organométallique

Cette variante améliorée du dépôt chimique en phase vapeur est utilisée pour créer des films minces semi-conducteurs cristallins de haute pureté et des micro/nanostructures. Il s'agit de la technologie de pointe utilisée dans les LED, les cellules solaires et les transistors à effet de champ (FET). Cependant, les procédés MOCVD (SiC, GaAs, GaN, autres semi-conducteurs composés) produisent également des poudres et des particules lorsque les gaz d'échappement s'écoulent vers le tuyau à basse température (environ 150 ℃) et la pompe à vide. Les particules peuvent causer des dommages imprévus et importants aux pompes à vide. Pour protéger les pompes à vide, un filtre haute performance est nécessaire pour capter les petites particules à haute température de fonctionnement.