Deposición química de vapor de metales orgánicos

Esta variante mejorada de la deposición química de vapor se utiliza para crear películas delgadas semiconductoras cristalinas de alta pureza y microestructuras y nanoestructuras, y es la tecnología líder en la industria utilizada en LED, células solares y transistores de efecto de campo (FET). Sin embargo, los procesos MOCVD (SiC, GaAs, GaN y otros semiconductores compuestos) también producen polvos y partículas cuando los gases de escape fluyen hacia la tubería y la bomba de vacío a baja temperatura (alrededor de 150 ℃). Las partículas pueden causar daños inesperados e importantes a las bombas de vacío. Para proteger las bombas de vacío, se necesita un filtro de alto rendimiento para atrapar partículas pequeñas a altas temperaturas de trabajo.