TB-002 QXL 应用程序

化学机械平坦化 (CMP) 是半导体行业用于制造晶圆的关键抛光工艺。在 CMP 期间使用的浆料中的大颗粒会导致晶圆表面出现缺陷，从而影响最终产品。采用两种主要的浆液过滤方法，即回路和使用点（POU）来减少由大颗粒造成的缺陷。POU 过滤是首选，因为它能够在低流速下使用亚微米过滤器，减少过滤器过早堵塞，并有可能过滤小于 1.0 微米的颗粒。QXL 系列过滤器结合了深度过滤器和褶式过滤器的优点，可有效去除颗粒并延长过滤器寿命。

在喷墨墨水制造过程中，过滤对于确保打印机性能和使用寿命至关重要。对于颜料基油墨，建议使用 QXL 系列过滤器进行多级过滤，而染料基油墨则需要两级过滤过程。

在涂料制造中，正确的过滤选择对于保持质量和去除污染物至关重要。Graver QXL 系列过滤器旨在应对可变形颗粒捕获、流动特性和尖锐颗粒截止等挑战，使其适用于各种涂层应用。由于凝胶能够变形和阻挡过滤介质，因此在各个行业中都面临着常见的过滤挑战。选择用于去除凝胶的最佳滤芯取决于溶液粘度、工作压力和凝胶浓度等因素。通常建议将深度过滤器用于凝胶浓度为中到高的粘度溶液，而混合褶皱/深度过滤器（如 QXL 系列）则提供具有高表面积和分层深度介质的解决方案，以防止凝胶挤出。

‍