超纯水

Graver Technologies为满足超纯水的要求提供了有效的技术。

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Graver Technologies 超纯水

超纯水/去离子水的高性能过滤技术

多年来,Ultrapure 水质的规格变得越来越严格,过滤技术也不断发展以满足这些要求。半导体设施可以以 2 MGD 或约 5500 立方米/天的速度使用超纯水。半导体行业的超纯水规格是最严格的。这些自来水厂通常是独立的设施,几乎独立于晶圆厂运营。水必须同时满足颗粒和电导率规格,需要使用反渗透、树脂床和机械过滤技术。在将水输送到晶圆厂之前,额定值低于 0.1 微米的最终过滤器是典型的,在那里可以找到等级相似的使用点过滤器。

关于 Graver 的超纯水过滤器

  • 制造、使用 18 mω-cm DI 水冲洗,经过测试并在 ISO 7 级洁净室环境中包装,以确保低可萃取性和低颗粒脱落
  • 从流入的水流中去除颗粒
  • 澄清/捕获来自上游工艺的离子交换树脂
  • 反渗透 (RO) 过滤器预过滤
  • 卓越的流动特性、高污染物容量和持续去除亚微米颗粒。
  • 墨盒具有高达 18 mω-cm 的快速冲洗电阻率和个位数 ppb 的 TOC 水平。

产品选型

  • ZTEC™ 用于低至 0.03 微米的关键颗粒控制
  • Stratum® A、PMA™、Stratum™ C 0.5 和 1 微米的熔喷过滤器为反渗透膜提供有效保护
  • WaterTec™ 0.05 到 0.2 微米的薄膜是非关键应用中的经济型膜选择

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