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AB-005 Conceptos básicos de la fabricación de circuitos integrados
Este resumen de aplicación explora los requisitos de filtración en la fabricación de circuitos integrados, incluidos varios componentes electrónicos como transistores, condensadores, resistencias, diodos, LED y fotocélulas.
Existen oportunidades para la filtración en la fabricación de semiconductores, que incluyen pequeños componentes electrónicos como transistores, condensadores y diodos. Estos componentes se pueden integrar para formar dispositivos avanzados como microprocesadores y RAM. Los procesos de fabricación implican el uso de agua ultrapura y productos químicos peligrosos que deben filtrarse para garantizar la alta calidad y el rendimiento de los dispositivos. Los elementos clave incluyen:
• Lingote de silicio: las obleas de silicio se cultivan a partir de lingotes de silicio altamente purificado y se procesan con SC1 y SC2 para la creación de capas aislantes.
• Fabricación de obleas: las obleas más grandes permiten más circuitos integrados por oblea, lo que aumenta la producción. El proceso implica varios pasos, como la fotolitografía y el grabado.
• Fotolitografía: implica crear patrones en obleas utilizando materiales fotorresistentes y reveladores que requieren una filtración especializada.
• Grabado húmedo y seco: el grabado húmedo utiliza productos químicos como el HF, mientras que el grabado seco implica la generación de plasma para un grabado preciso.
• Depuración: eliminación de la fotorresistencia con productos químicos como piraña o solventes, que requieren una filtración específica.
• Dopaje y deposición: los procesos como la oxidación, el dopaje y la deposición química de vapor son cruciales para crear propiedades eléctricas en la oblea.
• CMP: El pulido/planarización químico-mecánico suaviza la superficie de la oblea utilizando una lechada que necesita recirculación y filtración constantes.
• Sistemas de distribución de productos químicos a granel (BCDS): los productos químicos de alta pureza se suministran a través de sistemas de bombeo con filtros de larga duración, como Citadel.
• Agua: las instalaciones de semiconductores requieren agua ultrapura que cumpla con especificaciones estrictas, utilizando tecnologías de ósmosis inversa y filtración mecánica.
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Graver Technologies proporciona los conocimientos y la capacidad para modificar los medios de intercambio iónico (mecánica y químicamente) para eliminar las trazas de contención con el fin de desmineralizar y purificar el condensado y otras corrientes de agua de alta pureza en la generación de energía. Nuestros productos de resinas de intercambio iónico, incluidos Ecodex, Gravex, Powdex y Radex, siguen marcando el ritmo del sector en cuanto a pureza y rendimiento de las resinas de intercambio iónico.
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Graver Technologies cuenta con una larga trayectoria en el suministro de productos innovadores basados en tecnología y un excelente servicio al cliente. La empresa se fundó en 1866 en Lima, Ohio, y en aquellos primeros días, el producto se centraba en un ablandador de procesos en caliente que se utilizaba como desmineralizador para locomotoras de vapor.

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