Productos químicos ultrapuros
Graver Technologies proporciona tecnología de filtración de alto rendimiento para cumplir con los requisitos de los productos químicos ultrapuros.
Tecnología de filtro de alto rendimiento para productos químicos ultrapuros
La fabricación de componentes electrónicos muy pequeños, denominados semiconductores, incluye dispositivos como transistores, condensadores, resistencias, diodos, LED y fotocélulas. Los diferentes tipos de dispositivos se pueden integrar entre sí para formar circuitos integrados o dispositivos VLSI (integración a gran escala), como los microprocesadores y la memoria de acceso aleatorio (RAM). Los procesos de alta pureza requieren el uso de productos químicos de igual pureza para decapar, decapar, tamponar y enjuagar. Estos procesos utilizan productos químicos y mezclas químicas a base de solventes o acuosos, todos los cuales deben filtrarse a niveles nanométricos para garantizar que los defectos sean mínimos y obtener un alto rendimiento. Muchos de estos procesos pueden requerir temperaturas superiores a 150 °C, lo que limitará los procesos a materiales compuestos únicamente de fluoropolímeros como el PFA y el PTFE.
Acerca de los filtros Graver para productos químicos ultrapuros
- Membrana de fluoropolímero y construcción totalmente de fluoropolímero para cumplir con los requisitos de compatibilidad química para los decapantes a base de solventes, pirañas y productos agresivos a base de ácido.
- Fabricado, lavado con 18 mΩ-cm de agua destilada, probado y empaquetado en un entorno de sala limpia ISO de clase 7 para garantizar un bajo contenido de materias extraíbles y una baja eliminación de partículas
- Membrana PES para ácidos de base acuosa, que ofrece características de flujo superiores, alta capacidad contaminante y eliminación constante de partículas submicrométricas.
Selección de productos
- ZTEC™ - Para un control de partículas críticas de hasta 0,03 micras para productos químicos acuosos
- TefTec™ - Membrana de PTFE hidrófoba para aplicaciones químicas más agresivas
- Citadel® - Filtro totalmente de fluoropolímero para las aplicaciones químicas más críticas y agresivas
- QMA — Membrana hidrófila de alta eficiencia para un control fiable de partículas en aplicaciones químicas ultrapuras.
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